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traitement à haute pression

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La présente invention concerne un procédé de production d'une boisson, caractérisé en ce qu'il consiste à mélanger un élément de boisson et une émulsion huile/graisse qui est obtenue en soumettant une huile/graisse comestible contenant un acide gras hautement saturé à un traitement d'émulsification à haute pression plusieurs fois, et à définir la pression de traitement totale appliquée à l'huile/à la graisse comestible pendant la pluralité de traitements d'émulsification à haute pression à une pression égale ou supérieure à 40 MPa.
本発明は高飽和脂肪酸含有食用油脂に、高圧乳化処理を複数回行い、該複数回の高圧乳化処理における該食用油脂への処理圧力の合計を40MPa以上として調製して得られた油脂乳化物と、飲料成分とを混合することを特徴とする、飲料の製造方法に関する。patents-wipo patents-wipo
Au moyen d'un traitement à haute température et sous haute pression de peptides à base de plantes dans un liquide, il est possible de produire un extrait de plante contenant une concentration élevée de dicétopipérazine contenant de la cycloleucylphénylalanine et de la cycloleucylleucine.
本発明によれ植物性天然物由来の香味に優れたジケトピペラジンが得られ、そのまま飲食物に配合してジケトピペラジンの有する機能が付加された飲食物を製造することができる。patents-wipo patents-wipo
Le procédé pour le traitement d'eau contenant du bore est caractérisé en ce qu'il fait passer l'eau contenant du bore dans un dispositif membranaire d'osmose inverse à haute pression et ensuite traite l'eau ainsi obtenue avec un dispositif d'échange d'ions.
ホウ素含有水を、ROの膜劣化耐性が強い酸性から中性のpHにおいて、RO装置及びイオン交換装置によって効率よくホウ素除去処理することができるホウ素含有水の処理方法及び装置を提供する。patents-wipo patents-wipo
Ledit dispositif HIP (1) comprend : des boîtiers étanches aux gaz (3, 4) qui entourent un objet à traiter (W) ; une unité de chauffage (7) qui est disposée à l'intérieur desdits boîtiers et qui forme une zone chaude autour de l'objet à traiter (W) ; un réservoir sous haute pression (2) ; et une unité de refroidissement qui guide un gaz formant milieu de pression refroidi à l'extérieur des boîtiers vers la zone chaude pour refroidir la zone chaude.
このHIP装置(1)は、被処理物Wを取り囲むガス不透過性のケーシング(3,4)と、その内側に設けられて被処理物(W)の周囲にホットゾーンを形成する加熱部(7)と、高圧容器(2)と、ケーシングの外側で冷却された圧媒ガスをホットゾーン内に導いてこのホットゾーンを冷却する冷却部と、を備える。patents-wipo patents-wipo
Ledit diamant polycristallin présente une taille des grains cristallins inférieure ou égale à 500 nm et peut être fabriqué en soumettant du graphite, auquel un élément étranger qui n'est pas du carbone a été ajouté de façon à être amené à être dispersé dans tout le carbone à un niveau atomique, à un traitement thermique dans un dispositif de type presse à haute pression.
該多結晶ダイヤモンドの結晶粒径は500nm以下である。 上記多結晶ダイヤモンドは、炭素以外の元素である異種元素が炭素中に原子レベルで分散するように添加された黒鉛に、高圧プレス装置内で熱処理を施すことで作製可能である。patents-wipo patents-wipo
Le procédé de fabrication de boue de charbon de qualité inférieure comporte : une première étape au cours de laquelle un charbon de qualité inférieure grossièrement broyé est soumis à un traitement de modification à haute température et sous haute pression; et une seconde étape au cours de laquelle de l'eau et un agent de dispersion sont ajoutés au charbon de qualité inférieure ayant reçu le traitement de modification, et le charbon de qualité inférieure est transformé en boue par un procédé de broyage humide.
また、本発明の低品位炭スラリーの製造装置は、低品位炭を乾式粉砕する乾式粉砕装置と、 乾式粉砕された低品位炭を改質処理する高温高圧型混練装置と、 改質処理によって低品位炭から放出された水と分散剤とを添加して、改質処理された低品位炭をスラリー化する湿式粉砕装置とを有する。patents-wipo patents-wipo
La présente invention a trait à un dispositif de lampe à décharge à haute pression simple dans lequel la hausse de température locale d’un tube électroluminescent est supprimée lorsque le dispositif est activé et la répartition de la température dans le tube électroluminescent est uniformisée.
点灯時における発光管局所的な温度上昇抑えることができ、発光管内の温度分布を均一化できる簡易な高圧放電ランプ装置を提供する。patents-wipo patents-wipo
Le dispositif pour le traitement d'eau contenant du bore comprend un dispositif membranaire d'osmose inverse à haute pression dans lequel l'eau contenant du bore est introduite et un dispositif d'échange d'ions dans lequel l'eau provenant du dispositif membranaire d'osmose inverse à haute pression est amenée à passer.
ホウ素含有水を高圧型逆浸透膜装置に通水した後、イオン交換装置にて処理することを特徴とするホウ素含有水の処理方法。 ホウ素含有水が供給される高圧型逆浸透膜装置と、該高圧型逆浸透膜装置の透過水が通水されるイオン交換装置とを備えてなるホウ素含有水の処理装置。patents-wipo patents-wipo
« Les gouvernements qui cherchent à sanctionner la Palestine pour sa décision de rejoindre la CPI devraient immédiatement mettre fin à ces pressions, et les pays qui sont favorables à l'acceptation universelle du traité de la Cour devraient affirmer à voix haute leur soutien à l’adhésion palestinienne », a déclaré Balkees Jarrah, juriste auprès de la division Justice internationale de Human Rights Watch.
「ICC加盟を理由にパレスチナをおどした政府は圧力をかけるのをもうやめるべきだ。 またICC規程の普遍的な受け入れを支持する諸国はパレスチナの加盟を明確に歓迎すべきだ」と、ヒューマン・ライツ・ウォッチ国際司法顧問バルキース・ジャラーは述べた。「 非難されるべきは国際司法の力を弱めようとする動きのほうであって、パレスチナの条約加盟決定ではない。hrw.org hrw.org
La présente invention a pour objet de réaliser un dispositif de traitement à plasma d'excitation à micro-ondes qui peut produire, sous une pression intermédiaire et une haute pression, un jet de plasma qui présente une grande uniformité, une forte densité, une basse température et qui est large.
中間気圧及び高気圧においても高い一様性と高密度、かつ低温の広幅のプラズマジェットを発生することが可能なマイクロ波励起プラズマ処理装置を提供することを課題とするものであり、該マイクロ波プラズマ処理装置は、誘電体基板と、前記誘電体基板の一方の端部に設けられた該誘電体基板の厚みが徐々に小さくなる形状のテーパー部と、マイクロストリップ線路と、アース導体と、マイクロ波入力部と、前記誘電体基板内にガスを入力するためのガス入力口と、プラズマ発生部と、前記プラズマ発生部に一様な流速を持つ広幅のガス流を供給するために前記誘電体基板内部に設けられた、ガス流が進行するに従ってガス流幅が広くなるように形成されたガス流広幅化部と、ガスを前記ガス流広幅化部に供給するためのガス流路と、プラズマを吹き出させるためのノズルと、を備えることを特徴とする。patents-wipo patents-wipo
Il est préférable que le tube de transfert de chaleur pour un générateur de vapeur soit produit au moyen de procédés comprenant un procédé de travail à froid selon lequel un procédé d'étirage est réalisé au moyen d'un lubrifiant haute pression présentant une pression égale ou supérieure à 40 MPa, un procédé de traitement thermique de solution, et un procédé de redressage au moyen d'une machine à redresser les rouleaux.
蒸気発生器用伝熱管において、管内面の表面粗さを長手方向に測定し、測定された粗さ曲線から抜き取った50mmの範囲における寸法変動量が4μm以下で、かつ管端から1000mm位置までの曲り量が1mm以下であることにより、管を製造する際に渦流探傷による検査を高いS/Nで行うことが可能となり、検査能率を向上させることができるとともに、熱交換器への組み込みの際に組み込み作業を容易にできる。patents-wipo patents-wipo
Le corps stratifié est placé sur un mandrin rotatif (9) dans une chambre (8) d’appareil tournette; une solution alcaline aqueuse (11) est libérée goutte par goutte sur une partie (2a) de la couche de conversion photothermique (2) découverte par le substrat à traiter; puis la partie exposée est nettoyée au moyen d’une buse de nettoyage haute pression (12).
この積層体をスピンコーター装置のチャンバー(8)内のスピンチャック(9)上に載せ、光熱変換層(2)のうち、被処理基板から露出する部分(2a)に、アルカリ性水溶液(11)を滴下した後、高圧洗浄用ノズル(12)で洗浄する。patents-wipo patents-wipo
L'invention porte sur un procédé qui peut permettre à un complexe métallique de pénétrer de façon stable dans un polymère et d'être fixé de façon stable à celui-ci même par un traitement à basse température, dans un procédé de fabrication par lots, pour un prétraitement pour placage, dans lequel un complexe métallique pénètre dans un polymère à l'aide de dioxyde de carbone à haute pression.
本発明は、高圧二酸化炭素を用いて金属錯体をポリマーに浸透させるメッキ前処理のバッチ処理法において、低温度の処理においても安定に金属錯体をポリマーに浸透、かつ固定化する方法を提供する。 より詳細には、本発明は、還元剤を上記樹脂成形体に接触させて、上記還元剤を上記樹脂成形体内に浸透させることと、上記還元剤が浸透した上記樹脂成形体に、有機金属錯体が溶解した高圧二酸化炭素を接触させて、上記還元剤により上記有機金属錯体を上記樹脂成形体内に固定化することとを特徴とする樹脂成形体を含む複合材料の製造方法を提供する。patents-wipo patents-wipo
La présente invention concerne un dispositif (1) de production de particules, qui comprend : une cuve de traitement (3) où une solution de traitement adhère aux surfaces de particules inorganiques ; une chambre (4) communiquant avec une partie aval de la cuve de traitement (3) et où une matière pulvérulente et de l'air sont séparés l'un de l'autre ; un moyen d'alimentation en matière pulvérulente (50) comprenant une section d'alimentation (5), un système d'alimentation (6), etc., et permettant l'alimentation en matière pulvérulente de la cuve de traitement (3) ; et un moyen d'atomisation d'une solution de traitement (70) comprenant une buse (7), une pompe (8), un système d'alimentation (9), un système de génération d'air à haute pression (11) et permettant l'atomisation de la solution de traitement sous forme de gouttelettes sur la matière pulvérulente qui vient d'alimenter la cuve de traitement (3).
粒子製造装置1は、無機粒子の表面に処理液を付着させる処理室3と、処理室3の下流側に連通し、粉末材料と空気とを分離するチャンバ4と、供給部5および供給装置6等を有し、処理室3内に粉末材料を供給する粉末材料供給手段50と、ノズル7、ポンプ8、供給装置9および高圧空気発生装置11等を有し、処理室3内に供給された直後の粉末材料に処理液を液滴として噴霧する処理液噴霧手段70とを備えている。patents-wipo patents-wipo
Un procédé de fusion de minerai d'oxyde de nickel en mode humide pour la collecte de nickel et de cobalt à l'aide d'un procédé de lixiviation acide à haute pression qui comprend une étape de traitement de minerai, une étape de lixiviation, une étape de séparation solide/liquide, une étape de neutralisation, une étape de récupération du zinc, une étape de sulfuration et une étape de neutralisation finale, ledit procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend l'étape (A) ou, en variante, comprenant l'étape (A) et à la suite l'une parmi l'étape (B-1) et l'étape (B-2) ou à la fois l'étape (B-1) et l'étape (B-2).
鉱石処理工程、浸出工程、固液分離工程、中和工程、亜鉛除去工程、硫化工程及び最終中和工程を含む高圧酸浸出法を用いて、ニッケル及びコバルトを回収するニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法において、(A)工程を含み、あるいは(A)工程を経た後に、(B-1)工程、(B-2)工程のいずれか、若しくは両工程を含むことを特徴とするニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法。patents-wipo patents-wipo
Cette invention concerne un dispositif de compression isostatique à chaud (HIP) (1) qui assure le refroidissement efficace d'une zone chaude pendant le traitement HIP tout en limitant les températures dans la partie inférieure d'un réservoir sous haute pression.
高圧容器の下部の温度を抑えながらHIP処理のホットゾーン内を効率良く冷却することが可能なHIP装置(1)が提供される。patents-wipo patents-wipo
La présente invention a trait à un dispositif de détection de fuite de combustible gazeux qui permet de détecter une fuite de combustible gazeux du côté haute pression d'un détendeur de pression dans un passage d'alimentation en combustible gazeux qui s'étend depuis un réservoir de combustible gazeux jusqu'à une soupape d'injection de combustible gazeux.
気体燃料タンクから気体燃料噴射弁に至る気体燃料供給経路に介挿された減圧弁より高圧側の気体燃料漏れを検出する気体燃料漏れ検出装置であって、前記気体燃料噴射弁から噴射された気体燃料の積算量である燃料噴射積算量を算出する燃料噴射積算量算出手段と、前記燃料噴射積算量及び前記減圧弁より高圧側の気体燃料圧力に基づいて前記気体燃料漏れの有無を判定するための漏れ閾値を設定する漏れ閾値設定手段と、前記減圧弁より高圧側の気体燃料の圧力変化量を算出する圧力変化量算出手段と、前記圧力変化量が前記漏れ閾値より大きい場合に前記気体燃料漏れと判定する燃料漏れ判定手段とを備える。patents-wipo patents-wipo
La présente invention a trait à un dispositif à semi-conducteur hautement résistant à la pression qui comprend, sur un substrat de silicium de type p- (100), une zone de type n- (101) qui est entourée de zones de puits p- (102), une zone de drain n+ (103) qui est connectée à une électrode de drain (120), une zone de base p (105) qui est formée de manière à entourer la zone de drain n+ (103), une zone de source n+ (114) qui est formée dans la zone de base p (105), une zone a p- (131) qui divise la zone de type n- (101) en une zone de type n- (101a) qui contient la zone de drain n+ (103) et en une zone de type n- (101b) qui ne contient pas la zone de drain n+ (103).
耐圧半導体装置は、p-型シリコン基板(100)上にp-ウエル領域(102)により囲まれたn-型領域(101)と、ドレイン電極(120)と接続されるドレインn+領域(103)と、ドレインn+領域(103)を囲むように形成されたpベース領域(105)と、pベース領域(105)内に形成されたソースn+領域(114)と、n-型領域(101)をドレインn+領域(103)を備えるn-型領域(101a)およびドレインn+領域(103)を備えないn-型領域(101b)に分離するp-領域(131)と、を備えたものとする。patents-wipo patents-wipo
Ce système de jet d'eau à haute pression (1) est équipé, d'une part, d'un dispositif d'alimentation (3) qui a un dispositif de traitement (2) pour diminuer la quantité de gaz dissous dans l'eau et distribue l'eau traitée produite par le dispositif de traitement et, d'autre part, d'une buse (5) comportant un orifice de giclage qui est disposé dans un espace rempli d'eau et qui éjecte l'eau traitée distribuée par le dispositif d'alimentation.
ウォータージェットピーニング装置(1)は、水に溶存するガス量を低減する処理装置(2)を有し、処理装置で生成された処理水を供給する供給装置(3)と、水が満たされた空間に配置さ、供給装置から供給された処理水を噴射する噴射口を有するノズル(5)と、を備える。patents-wipo patents-wipo
Le dispositif de traitement hydrofuge de la borne de fil, dans laquelle une atmosphère haute pression est créée autour du côté de la borne de fil de sorte que l'agent hydrofuge du fluide fourni à la borne de fil se répande à l'intérieur d'un fil revêtu lorsque le traitement hydrofuge de la borne de fil est réalisé, comprend une première section logement permettant de loger la borne de fil sur laquelle l'agent hydrofuge de fluide est appliqué, un moyen pour entourer la première section logement ainsi qu'un moyen de mise sous pression permettant d'envoyer de l'air dans la première section logement.
本発明は、電線端末を止水処理するために、前記電線端末に供給されている流動性止水剤が被覆電線の内側に浸透するように、前記電線端末側を高圧雰囲気とする電線端末の止水処理装置であって、流動性止水剤が施されている前記電線端末を収容する第一収容部と、前記第一収容部を密閉する密閉手段と、前記第一収容部内に空気を送り込む加圧手段とを備える電線端末の止水処理装置に関する。patents-wipo patents-wipo
La nitruration sélective par plasma est effectuée en établissant une pression de traitement située dans la plage de 66,7 Pa à 667 Pa et en fournissant entre 0,1 W/cm2 et 1,2 W/cm2 de puissance à haute fréquence par unité d'aire de l'objet à traiter, d'une source (44) de puissance à haute fréquence à l'électrode (42) d'une table porteuse (2).
7Pa以上667Pa以下の範囲内に設定し、置台2の電極42に高周波電源44から被処理体面積当り0. 1W/cm2以上1.patents-wipo patents-wipo
Ces valeurs de pression et les valeurs de pression réellement mesurées sont fournies à un dispositif (27) d'affichage et sont traitées par une expression sous forme de courbe QH d'un débit (Q) et d'une hauteur d'eau (H), de sorte que les corrélations du débit entrant et de la hauteur d'eau dans le réseau de conduits de distribution sont affichées sous la forme d'un graphe de la courbe QH.
配水池から配水管路網に流入する浄水の流入量を計測する1つの流量計及配水管路網内の適宜一か所の管路の圧力を計測する1つの圧力計より伝送される流量データ及び圧力データを一定周期で取込むデータ収集部(21)により収集された1日分のデータを、近似式演算部(24)によりへーゼンウイリアムの近似式に基づいて演算すると共に、最小二乗法を用いて求めた1日毎の仮想管路総延長と流量補正係数をパラメータとしてデータベース(25)に格納し、このパラメータを用いてオンライン異常検出部(26)によりデータ収集手段(21)により一定周期で収集された流量データ及び圧力データを上記近似式に基づいて圧力値を演算し、この圧力値と実測の圧力値とを表示装置(27)に与えて流量(Q)と水頭(H)とのQHカーブとして表現処理して配水管路網における流入量と水頭の相関をQHカーブのグラフとして表示する。patents-wipo patents-wipo
L'invention concerne un film anti-adhésif de haute qualité qui est nécessaire pour un élément panneau tactile ou un substrat de panneau plat de type à capacité électrostatique, en particulier, pour une feuille adhésive sensible à la pression double-face sans substrat transparente dans laquelle des corps étrangers sont inacceptables, et plus particulièrement pour une telle feuille adhésive sensible à la pression double-face sans substrat qui doit être utilisée dans des conditions de haute température accompagnées de pulvérisation, qui peut éviter la contamination d'une étape de traitement dans laquelle une propreté extrême est nécessaire, et qui présente une excellente inspectabilité de contamination.
静電容量方式のタッチパネル用部材やフラットパネル基材に必要な離型フィルムであり、特に、異物を嫌う高透明な基材レス両面粘着シート、その中で特に、スパッタを伴う高温条件下に使用されるものであって加工時にクリーン度が厳しい工程の汚染を防ぎ、かつ、異物検査性に優れる高品質の離型フィルムを提供する。 基材ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、四級アンモニウム塩基含有ポリマー、ポリエチレングリコール含有アクリレートポリマーおよび架橋剤を含有する塗布液を塗布して得られた第一塗布層を有し、少なくとも一方の第一塗布層上に、少なくとも一種のオルガノシロキサン化合物を含有する塗布剤を塗布して形成され且つ厚みが10~100nmの第二塗布層を有、更に、少なくとも一方の第二塗布層上に離型層を有し、当該離型層面を150°C、60分で熱処理した後のフィルム表面のオリゴマー析出量が0.5mg/m2以下である離型フィルム。patents-wipo patents-wipo
La présente invention a trait à : une composition pour un liant d'électrode, qui est en mesure de fournir une couche d'électrode qui est dotée d'une adhérence élevée à un collecteur et qui par conséquent ne peut être séparée du collecteur lorsqu'une pression est exercée, tout en étant hautement flexible ; une composition pour une électrode ; une électrode qui est obtenue à partir de la composition pour une électrode ; et un dispositif électrochimique qui comprend l'électrode.
本発明の目的は、集電体に対する密着性が高くプレス加工時に剥離が生じることがなく、しかも、高い柔軟性を有する電極層を形成することができる電極バインダー用組成物、電極用組成物、この電極用組成物から得られる電極、およびこの電極を具えた電気化学デバイスを提供することにある。 本発明に係る電極バインダー用組成物は、(A)(a)脂肪族共役ジエン系単量体由来の繰り返し単位および(b)エチレン性不飽和カルボン酸単量体由来の繰り返し単位を含み、-80~100°Cの範囲に少なくとも1点のガラス移転点を有し、且つ貯蔵弾性率の対数の温度微分係数が-0. 09~-0.patents-wipo patents-wipo
Un plasma est généré dans des conditions telles que la proportion d'oxygène dans le gaz de traitement se situe entre 0,1 et 50 % et la pression de traitement entre 1,3 et 677 Pa par utilisation d'un appareil de traitement par plasma (100) qui introduit une hyperfréquence dans une chambre (1) au moyen d'une carte d'antenne plane (31) munie d'une pluralité de trous de rayonnement hyperfréquence (32), tout en appliquant une puissance haute fréquence à une platine (2).
1%以上50%以下の範囲内であり、かつ処理圧力が1.patents-wipo patents-wipo
25 sinne gevind in 15 ms. Hulle kom uit baie bronne en word nie nagegaan nie.