apparatuur die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen van maskers of het bewerken van halfgeleiderelementen en die gebruikmaken van afgebogen en gefocusseerde elektronen-, ionen- of ’laser’-bundels, met één of meer van de volgende kenmerken:
equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following:EurLex-2 EurLex-2